PlasmaPro 80 PECVD 參考價(jià):面議
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開(kāi)式系統(tǒng),,可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案,。 它易于放置,,便于使用,,且能確保工藝性能,。直開(kāi)式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快...PlasmaPro 800 PECVD 參考價(jià):面議
The PlasmaPro 800 offers a flexible solution for Plasma Enhanced Chemical Vapour...PlasmaPro 100 PECVD 參考價(jià):面議
設(shè)計(jì)PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能,,如折射率,、應(yīng)力,、電學(xué)特性和濕法化學(xué)刻蝕速率的前提下,,生產(chǎn)均勻性好且沉積速率高的薄膜,。詢(xún)價(jià) 增加到詢(xún)價(jià)列表 在詢(xún)價(jià)...PlasmaPro 1000 參考價(jià):面議
大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案詢(xún)價(jià) 增加到詢(xún)價(jià)列表 在詢(xún)價(jià)列表中查看此產(chǎn)品(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)